成功したケース
法人向けソリューション
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産業用多孔質セラミックフィルター＆センサー保護エレメント
事件の詳細
課題
プロセス機器サービスユニットは、クーラントループ、ガスサンプリング、および実験室ろ過で使用される、多孔質アルミナ/ジルコニアフィルターキャンドル、セラミック通気ディスク、センサー保護シース、および小型多孔質ベントエレメントを保守していました。細孔は金属微粉、クーラントミスト、顔料粉末、シリカダストを捕捉しましたが、逆洗だけでは深部細孔を閉塞する超微細粒子を放出できませんでした。酸/熱ベーキングは一部の化学物質にしか適さず、長いターンアラウンド時間を追加しましたが、ブラシは脆いセラミック表面を損傷しました。
解決策
サービスユニットは、加熱なしの「ACMESONIC超音波洗浄機」に標準化しました。化学物質適合リンス用のSUS316Lタンク、一般的な細孔排出用の40 kHzプライマリ、超微細センサーベント用の68 kHz、脆い表面の過負荷を回避するための調整可能な電力、溶解空気をパージするための脱気モード、および薄いセラミックシース用のセミモードを備えています。フィルターキャンドルはカスタムラックに垂直に吊り下げられ、ディスクは非研磨トレイに置かれました。
結果
深部細孔の微粉、クーラントミスト、顔料ダストは、逆洗のみのメンテナンスよりも一貫して放出されました。超微細センサーベントは、ブラシの損傷や熱衝撃なしに復元されました。周囲プロセスは、アルミナ/ジルコニアエレメントの化学物質適合性制御を簡素化し、繰り返し可能な脱気/セミレシピは、脆いチップのリスクを軽減し、再起動時の圧力低下安定性を向上させました。
40/68 kHzマイクロポアSUS316L適合リンス脱気 + セミ周囲、ヒーターなし
